X射線是用高能電子撞擊高原子序數(shù)的重金屬靶（鎢）而轉(zhuǎn)換產(chǎn)生的。
X射線與物質(zhì)作用的形式與γ射線的基本相同，有較強的穿透力。
γ射線發(fā)射的是單能光子，它在材料中的穿透以單指數(shù)形式衰減。而電子打靶產(chǎn)生的X射線，發(fā)射的是具有連續(xù)能譜分布的光子，其最高能量等于電子的能量，它在材料中的穿透以準指數(shù)形式（一系列指數(shù)衰減的疊加）衰減。
一、X射線的穿透深度
X射線的穿透深度與電子能量有關(guān)，5MeV電子打靶產(chǎn)生的X射線對水的1/10減弱層厚度分別為39cm，60Co對水的1/10減弱層厚度為31cm。
IAEA等國際組織規(guī)定，X射線對食品的輻照應(yīng)用，能量必須小于5MeV的能量上限，今后可能放寬到7.5MeV。因為過高能量的電子產(chǎn)生的X射線，通過光核反應(yīng)在輻照的食品中會產(chǎn)生感生放射性，對人體健康是有害的。
二、X射線的能量分布
X射線的能量分布與入射電子的能量有關(guān)，X光子的最大能量等于入射電子的能量，高能量的X光子數(shù)，隨電子能量的增加而增加。但對3種不同電子能量的X射線來說，它們的峰值能量都在0.3MeV，基本都是相同的。
三、X射線的角分布
X射線的發(fā)射主要集中在電子束的前進方向，而且能量越高相對越集中，這種效應(yīng)加強了X射線在吸收材料中的穿透，并且有利于提高輻照能量的利用率。
四、X射線的轉(zhuǎn)換效率
電子對X射線的轉(zhuǎn)換效率與入射電子能量及靶材料有關(guān)。實驗表明，金屬鈦是最佳的靶材料，它有最高的X射線轉(zhuǎn)換效率。入射電子的能量E越高，轉(zhuǎn)化效率也高，5－10MeV的電子，轉(zhuǎn)化效率為8.2－16.2%。
作為X射線源，它同時具有γ源的強穿透力及加速器電子源的優(yōu)點，例如定向性好、輻射強度大、效率高、安全性好等，主要問題是電子束轉(zhuǎn)換成X射線的效率比較低，運行成本高，限制了它的工業(yè)應(yīng)用，只有在被照對象比較厚實的情況下，才用X射線輻照。
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