輻照裝置設(shè)計(jì)的基本要求是保證產(chǎn)品中適宜的劑量不均勻度，同時(shí)獲得較高的輻射能量利用率，使輻射源的總輻射功率與實(shí)際需要的產(chǎn)品加工能力很好的匹配。即在保證質(zhì)量的前提下獲得最大的經(jīng)濟(jì)效益。
在工業(yè)輻照應(yīng)用中，輻照產(chǎn)品體積和質(zhì)量比較大，受輻照幾何的影響，輻照產(chǎn)品內(nèi)各處接受到的吸收劑量不可能是相同的。假設(shè)在輻照產(chǎn)品內(nèi)測(cè)量到的，最小和最大劑量值分別為Dmin和Dmax，則U=Dmax/Dmin定義為輻照不均勻度，這是一個(gè)非常重要的概念，是保證輻照產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵。原則上講，U應(yīng)該越接近于1越好，即產(chǎn)品中各處接受到的吸收劑量應(yīng)盡可能的相同，這對(duì)于小的試驗(yàn)樣品來說是可能的，也只有這樣，實(shí)驗(yàn)的結(jié)果才可以很清楚地說明劑量—效應(yīng)的關(guān)系。但實(shí)際上輻照產(chǎn)品的體積和質(zhì)量比較大，各處的吸收劑量不可能是相同的，因此對(duì)不同的產(chǎn)品，應(yīng)規(guī)定不均勻度U有一個(gè)合理的范圍。例如，將U控制在1.3－1.5或更大些。
輻照的目的是為了使產(chǎn)品獲得期望的輻射效應(yīng)，假設(shè)給予產(chǎn)品必需要的吸收劑量為Do，而產(chǎn)品得到過量的照射是無用的甚至可能是有害的。因此，輻照裝置的設(shè)計(jì)應(yīng)使Dmin盡可能接近而略大于Do，Dmax應(yīng)小于或等于允許的最高吸收劑量Dt，Dt由有關(guān)專業(yè)機(jī)關(guān)規(guī)定。U=Dmax/Dmin的增大意味著Dmax的提高，它會(huì)增加輻照能源消耗，增加成本。
設(shè)計(jì)上的要求總是，照射效率F越高越好，不均勻度U越小越好。但這兩者之間的要求是矛盾的。為了提高輻照效率F，需要增大受照面積，縮短產(chǎn)品源距，提高產(chǎn)品包裝密度等等，但這些措施會(huì)使不均勻度U增大。
所以，照射效率F與不均勻度U之間，需要權(quán)衡，找到最佳平衡點(diǎn)。
為了經(jīng)濟(jì)和實(shí)用的原因，為了最優(yōu)化產(chǎn)品的質(zhì)量和適應(yīng)性，以及從輻照裝置獲得最大的產(chǎn)量，常采用各種技術(shù)使U最小。為了達(dá)到這一目的采用的方法包括：產(chǎn)品多次通過，或多邊輻照，源的重疊，增加源的活性，產(chǎn)品兩次或更多次的重疊通過，適當(dāng)?shù)胤胖梦栈蛏⑸湮镔|(zhì)，或調(diào)整束流掃描等等。
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